听着林墨的这番话。
在这里的所有人，顿时就是被惊醒了！
是啊......
拿了一个国家级的，科学技术进步奖。
这......
有哪里是可以好去骄傲的......
倘若......
是最高科学技术奖的话......
那还是可以骄傲一番的......
听着这番话，在这里的众人，一个个的，深吸了一口气。
而也是在此时的，众人的心中，倒是只有一个想法......
那就是，最高科学技术奖。
这种级别的奖项......
他们，能拿到吗？？
毕竟......
这个奖项的等级，太高了！！
远非他们之前，所拿过的所有奖项，可以比拟的......
回望过去。
能拿下最高科学技术奖的，那都是何等的神仙人物？？
程铠甲，吴梦超，孙佳栋，师昌叙，曾庆村......
这里哪一个，不是响当当的大人物？？
不是国之栋梁？？
而他们......
真的，有机会，可以拿到手吗？
就在众人心中有些犹豫的时候......
林墨的声音，倒也是随之响起。
“怎么？这就犹豫了？就觉得不可能了？？”
对此的，林墨只是笑了笑。
而后......
摇摇头，道。
“说实话，我倒是觉得，这没什么不可能的。”
林墨的语气平淡，没有丝毫的波澜。
而这句话落在其他人的耳朵里。
却是让他们，不禁的苦笑不已。
没什么不可能的？？
这是真的敢说啊......
要知道，这可是最高科学技术奖啊......
难度，可不是一般的奖项，可以比拟的啊......
而现在......
自家老板说......
拿下来，没什么不可能的......
这真的是......
众人叹息着。
神色更是复杂不已。
对于这件事。
说实话，他们是全然不相信的......
然而......
就在此时的。
林墨的声音，也是随之响起。
“怎么，不相信？”
轻轻的笑了笑，林墨就是看向了孟轻舟，道。
“孟轻舟，我问你，我之前交给你的，光子芯片的科研数据，研究的怎么样了？”
随着林墨的这句话落下之后。
在这里的众人，一时之间的，就是愣住了......
对啊......
他们还有光子芯片，这个杀手锏啊！
一瞬间的，众人重新的，振奋了起来......
然后，孟轻舟就是沉吟了下，开口道：“目前，光子芯片领域，我们已经是研究了您给的研发日志的1%的程度......”
听着这番话，林墨点点头，道：“是吗？1%的程度......也是还算不错了。”
满意的点点头，林墨的神色，倒也是显得淡然了起来。
毕竟......
这个程度的研究进度，算是非常好的一个消息了......
“行了。既然如此的话......
那我们，今天就去庆祝下！
今天，我请你们去吃，大餐！
等拿完奖之后，给你们，放三天假！”
这番话落下的瞬间。
现场的所有人......
顿时一阵的欢呼！！
下一刻的......
在这里的众人。
便是跟着林墨一起，迅速的离开了......
而随着众人离开了之后，所有人的脸上。
此时，倒也是浮现了一层笑容......
......
一夜时间过去。
等到了第二天一早，跟随林墨，前往京北的研究员团队。
也就是被挑选了出来。
下一刻的......
众人就是乘坐着车子，前往机场。
一路上，路边的广告牌。
时不时的，就是能看看到。
“国家科学技术奖项颁奖典礼倒计时”的消息。
而这铺天盖地的消息，倒也是吸引了不少人的，围观瞩目。
“嗯？是啊.....好像又是到时间了啊......”
“没想到啊......这么快啊......又是一年一度的，国家科学技术奖项颁奖典礼了......”
“就是不知道，今年又有哪些能够拿奖的黑科技了啊......”
“是啊......”
在这一刻的，众人不禁的，就是开口道。
对于这件事，他们倒是非常在意的......
毕竟，去年的时候，可是曝光了不少黑科技的啊......
而每一项黑科技，那都是足以振奋人心的！
正是因此的......
他们对于今年的奖项，才会如此的在意......
以及有些好奇......
“国内这些年，科技是越来越发达了......”
“唉，我倒是更希望，能看到跟芯片有关的突破......”
“妈的，说到这个就来气！米粒坚的那群家伙，真的是不干人事！！”
“科技封锁，还不是觉得有威胁了？”
“但是国内的芯片研究的公司，企业，也是真的垃啊......一个28nm的芯片，被卡脖子多久了？”
“唉......是啊，咱们国家，28nm的光刻机，什么时候能研发出来啊......”
“唉？不是说，魔都微电子，都可以生产3nm的芯片了吗？”
“这么讲吧，生产的确是可以生产了，但是不代表，我们对于光刻机领域，有所突破了。
魔都微电子，所谓的可以生产了，用的技术，并不是光刻机，而是刻蚀机.......
懂了吧？光刻机，到现在为之，我们国家还是被卡脖子的......”
“但是我看海外，那都是已经弄出来了3nm的芯片和光刻机了，我们，这么惨吗？？”
“是啊，这28nm的光刻机，有什么难度吗？”
“28nm的光刻机，那是绝对的高科技啊......历史上，因特尔，就在28nm的光刻机上，被卡脖子了许久......
因为28nm的工艺制程，是必须要浸入式了，光线要进入水里，水覆盖在晶圆上。
其中最大的难度是曝光的对准问题，前一个光罩和后一个光罩之间的位置，距离误差只能4~5nm。
而这个，对光学物镜和工作台稳定性、系统整合提出了极高的挑战！！
正是因此的，才让我们一时半会的，没办法达到28nm光刻机的突破......”
“原来如此吗......”
“唉，看来我们想要看到，国产的28nm光刻机，还有一段时间啊......”
一时之间的，众人的心中，不禁的就是哀叹了起来......